文献
J-GLOBAL ID:201302286652670984   整理番号:13A0975142

無秩序粒状材料とトンネル接合接触での磁気コンダクタンス

Magnetoconductance at tunnel junction contacts with disordered granular materials
著者 (6件):
資料名:
巻: 534  ページ: 666-672  発行年: 2013年05月01日 
JST資料番号: B0899A  ISSN: 0040-6090  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
無秩序正常(DN)材料とのトンネル接合接触で発生しうる磁気コンダクタンスを探究した。原形DN材料そして異なる型のトンネル接触として自己集合1,4-ブタンジチオール架橋金ナノ粒子を用いた。一つの型は金電極/1,4-ブタンジチオールに生来のトンネル接合接触であり,他はアルミニウム/アルミニウム酸化物層で自然に生じるものである。対照測定のために,トンネル接合接触の代わりに臨界温度Tcの上下での正常金属および半導体接触も研究した。接触抵抗が重要なナノ粒子膜体制,すなわち,膜が金属的であり,低抵抗をもつときに焦点を絞った。この体制では,半導体接触がTcより下での”無反射トンネル効果”に起因するゼロ場磁気コンダクタンスの増強を生じさせた。正常金属接触は有意な磁気コンダクタンスを生成しなかった。半導体が正常金属になるTcより上での半導体接触に対してもこれは真実である。正常金属とDN材料間にトンネル接合が存在するとき,約10Kより下で約10%のゼロ場磁気コンダクタンス抑制が現われた。無秩序粒状材料におけるコヒーレント後方散乱,フィルタリングそして平面トンネル接合を横切る電流の流れの局所的性質に基づいてトンネル接合に媒介される磁気コンダクタンスの機構を提案した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (1件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体-金属接触 
物質索引 (1件):
物質索引
文献のテーマを表す化学物質のキーワードです
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る