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J-GLOBAL ID：201302287053320831   整理番号：13A1262495

NdFeB薄膜のモルフォロジーと磁気的特性に及ぼす沈着膜厚の影響

Effect of Deposition Film Thickness on Morphology and Magnetic Properties of NdFeB Thin Films

著者 (4件)： Zhang Kai (Coll. of Materials Sci. and Engineering,Taiyuan Univ. of Sci. and Technol., Taiyuan) ,  Zhang Mingang (Coll. of Materials Sci. and Engineering,Taiyuan Univ. of Sci. and Technol., Taiyuan) ,  Liu Wenfeng (Coll. of Materials Sci. and Engineering,Taiyuan Univ. of Sci. and Technol., Taiyuan) ,  Yang Libin (Coll. of Materials Sci. and Engineering,Taiyuan Univ. of Sci. and Technol., Taiyuan)
資料名： Cailiao Daobao  (Cailiao Daobao)
巻： 26  号： 5B  ページ： 46-48,69  発行年： 2012年 
JST資料番号： C2126A  ISSN： 1005-023X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： マグネトロンスパッタリングを,Pタイプ用の単結晶シリコン下地材料で,スパッタリング時間を調整することにより,NdFeB薄膜の種々の厚みを製造するために用いた。次に,種々の厚みがあるNdFeB薄膜を,関連機器により,特性評価した。結果は,NdFeB薄膜の沈着厚みが,直線的にスパッタリング時間の増加に伴い増加し,沈積速度は,スパッタリング時間の種々の時間に対し近似的に等しい事を示した。保磁力は,膜厚みの増加とNd含量の増加に伴い,漸増した。膜中で,Fe含量は,84.01%から81.65%まで低下し,Ndは10.73%から13.10%まで増加し,Bの含量は5.25%と5.38%の間を浮遊した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *ネオジム含有合金 ,  *ホウ素含有合金 ,  *鉄合金 ,  *薄膜 ,  モルフォロジー ,  磁気的性質 ,  沈着 ,  膜厚 ,  マグネトロンスパッタリング ,  ケイ素
準シソーラス用語： *NdFeB ,  磁気的特性 ,  単結晶シリコン

分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (6件)： NdFeB ,  薄膜 ,  モルフォロジー ,  磁気的特性 ,  沈着 ,  膜厚