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J-GLOBAL ID：201302287055329461   整理番号：13A0580730

透明な金属ナノメッシュ電極の電気抵抗率

Electrical resistivity of transparent metal nanomesh electrodes

著者 (7件)： NAKANISHI Tsutomu (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  FUJIMOTO Akira (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  KITAGAWA Ryota (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  MASUNAGA Kumi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  NAKAMURA Kenji (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  TSUTSUMI Eishi (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN) ,  ASAKAWA Koji (Toshiba Corp., Kawasaki, JPN)
資料名： Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science  (Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻： 210  号： 2  ページ： 327-334  発行年： 2013年02月 
JST資料番号： D0774A  ISSN： 1862-6300  CODEN： PSSABA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 厚みが30nm,ピッチが230-450nmのAgナノメッシュ電極をナノインプリントリソグラフィーにより作成した。電流-電圧特性を測定して,電気抵抗率を決定した。ミクロ開口を基に計算した電気抵抗率値から測定した電気抵抗率値が,開口の間隔が小さくなり,開口密度が高くなると共に変位することが分った。この変位は電子の伝導経路が狭くなり,ナノ開口による電子散乱確率が高くなるとして説明した。これらナノメッシュ電極の電気抵抗率は10^-6-10^-5Ωcmのオーダで,従来型の透明電極のものより1桁低い。

シソーラス用語： 銀 ,  ナノ構造 ,  *透明電極 ,  リソグラフィー ,  *電気抵抗率 ,  開口 ,  電流電圧特性 ,  電気伝導 ,  電子散乱
準シソーラス用語： *ナノメッシュ ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  電子伝導

分類 (1件)： 金属結晶の電子伝導  (BM03033M)

タイトルに関連する用語 (2件)： メッシュ電極 ,  電気抵抗率