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J-GLOBAL ID：201302287162577826   整理番号：13A1156379

化学的方法によりシリカガラス基板に金薄膜を作製する容易な方法

An easy way to obtain thin gold film on silica glass substrate by chemical method

著者 (5件)： LAMIC-HUMBLOT Anne-felicie (Lab. de Reactivite de Surface, UMR CNRS 7197, Univ. Pierre et Marie Curie, Paris 6, 4 place Jussieu 75005, Paris France) ,  CASALE Sandra (Lab. de Reactivite de Surface, UMR CNRS 7197, Univ. Pierre et Marie Curie, Paris 6, 4 place Jussieu 75005, Paris France) ,  LEGER Cedric (Sagem Defense Securite, 72-74, Rue de la Tour Billy, 95100, Argenteuil France) ,  ALPERINE Serge (Sagem Defense Securite, 72-74, Rue de la Tour Billy, 95100, Argenteuil France) ,  LOUIS Catherine (Lab. de Reactivite de Surface, UMR CNRS 7197, Univ. Pierre et Marie Curie, Paris 6, 4 place Jussieu 75005, Paris France)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 539  ページ： 151-153  発行年： 2013年07月31日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 導電性表面を作製するために現在は超高真空条件下での物理的金属堆積が利用されている。シリカガラスの場合には,表面上での金属ナノ粒子の無統制な成長を避けるために通常は補助酸化物層が要求される。ここでは,裸のシリカガラス上に膜を形成する高密度の微小金ナノ粒子を形成することができる単純な化学的方法を紹介する。金の堆積は大気圧でそして水中で起こり,続いて熱処理を行なった。原子間力顕微鏡法実験によると6nm厚さの金膜が形成された。この膜は並列したナノ粒子から構成され,炭素被覆なしに走査型電子顕微鏡法画像化を行なう可能性により証明されたように,真空下で電気伝導率を保証している。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 石英ガラス ,  基板 ,  *金 ,  *ナノ粒子 ,  *金属薄膜 ,  熱処理 ,  原子間力顕微鏡 ,  *電気伝導率 ,  真空 ,  *還元 ,  *溶液成長 ,  薄膜成長
準シソーラス用語： シリカガラス

分類 (1件)： 金属薄膜  (BK14030T)

タイトルに関連する用語 (5件)： 化学 ,  シリカ ,  ガラス基板 ,  金薄膜 ,  作製