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J-GLOBAL ID：201302288055219786   整理番号：13A1522080

La添加ビスマスフェライト薄膜のゾル-ゲル調製法とその低温強磁性体および強誘電特性

Sol-gel preparation of La-doped bismuth ferrite thin film and its low-temperature ferromagnetic and ferroelectric properties

著者 (3件)： Yan Fuxue (School of Materials Sci. and Engineering, Xi’an Univ. of Technol., Xi’an) ,  Zhao Gaoyang (School of Materials Sci. and Engineering, Xi’an Univ. of Technol., Xi’an) ,  Song Na (School of Materials Sci. and Engineering, Xi’an Univ. of Technol., Xi’an)
資料名： Journal of Rare Earths  (Journal of Rare Earths)
巻： 31  号： 1  ページ： 60-64  発行年： 2013年 
JST資料番号： W0092A  ISSN： 1002-0721  CODEN： JREAE6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Bi_(0.85)La_(0.15)FeO_3薄膜をゾル-ゲル法でATO硝子基板上に調製した。Bi_(0.85)La_(0.15)FeO_3膜の相構造,膜面品質,イオン原子価,強誘電特性/磁気的特性に及ぼすLa添加の影響を研究した。La添加により,不純物相の形成,および常温でのFe(3+)からFe(2+)イオンへの変化が抑制された。無添加BiFeO_3と比較し,La添加により平均粒径および膜密度も増加し,膜の漏れ電流密度が減少した。La添加により,残留分極および飽和磁化が著しく増強した。Bi_(0.85)La_(0.15)FeO_3膜の残留分極が徐々に減少し,50-300Kの温度測定の低下に伴い飽和磁化が増加した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *ランタン ,  *ビスマス化合物 ,  *フェライト ,  *鉄化合物 ,  *薄膜 ,  低温 ,  強磁性体 ,  強誘電性 ,  ゾル-ゲル法 ,  基板 ,  電気装置部品
準シソーラス用語： *La ,  *ビスマスフェライト ,  強誘電特性 ,  ガラス基板

分類 (1件)： 薄膜一般  (BK14010X)

タイトルに関連する用語 (8件)： La ,  ビスマスフェライト ,  薄膜 ,  ゾル-ゲル ,  調製法 ,  低温 ,  強磁性体 ,  強誘電特性