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J-GLOBAL ID：201302288445418887   整理番号：13A1166751

反応性スパッタリングされたZnO膜の室温近傍の単一分域エピタクシー

Near-room temperature single-domain epitaxy of reactively sputtered ZnO films

著者 (14件)： CHAMORRO W (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  CHAMORRO W (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  HORWAT D (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  HORWAT D (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  PIGEAT P (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  PIGEAT P (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  MISKA P (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  MISKA P (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  MIGOT S (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  MIGOT S (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  SOLDERA F (Saarland Univ., Saarbruecken, DEU) ,  BOULET P (Univ. de Lorraine, Nancy, FRA) ,  BOULET P (Inst. Jean Lamour, CNRS, Nancy, FRA) ,  MUECKLICH F (Saarland Univ., Saarbruecken, DEU)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 46  号： 23  ページ： 235107,1-7  発行年： 2013年06月13日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ZnO薄膜がシリカおよび(1000)サファイア基板上の純粋な亜鉛ターゲットによるdc反応性マグネトロンスパッタリングによって室温近傍で成長した。蒸着チャンバ中に供給された酸素流量率の増加は光学的透明度の改善と酸素のサブ化学量論からオーバー化学量論までの転移を生じる。後者は酸素侵入がウルツ格子中に組み込まれるので欠陥化学の変化に付随して生じる。並行して,面内圧縮応力状態の修正はZnOの化学量論近くの最小値で観測される。実際,ZnOの微細構造と光学特性は反応性ガスがより酸化されるにつれて強く進展する。この転移内で,ウルツ鉱ZnOの単一分域エピタクシーはφ走査X線回折と透過型電子顕微鏡で探索されるのでサファイア上で進展する。ZnO単結晶は成長方向に沿ってc軸に系統的に向けられる。そのような低温でのエピタキシャルZnOを形成する可能性が吸着原子の移動度に高速酸素粒子の運動エネルギーの変換によって説明される。

シソーラス用語： 反応性スパッタリング ,  *酸化亜鉛 ,  分域 ,  *エピタクシー ,  *薄膜 ,  欠陥 ,  化学量論 ,  酸素 ,  微細構造 ,  光学的性質

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 反応性スパッタリング ,  ZnO ,  室温 ,  近傍 ,  単一分域 ,  エピタクシー