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J-GLOBAL ID：201302288614222458   整理番号：13A0864624

金属表面における活性水素解離のトンネルモデル

A Tunnel Model for Activated Hydrogen Dissociation on Metal Surfaces

著者 (3件)： GERMAN Ernst D. (Technion - Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  ABIR Hadas (Technion - Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR) ,  SHEINTUCH Moshe (Technion - Israel Inst. of Technol., Haifa, ISR)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 117  号： 15  ページ： 7475-7486  発行年： 2013年04月18日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 様々な金属および合金表面における水素分子の活性解離吸着を,理論的に研究した。前駆体媒介解離メカニズム(PMD)のモデルで考察を行った。PMD活性化エネルギーと速度定数を計算した結果,AgおよびCu表面で,高い活性化障壁と小さい速度定数を示した。見積もられたBroensted-Evans-Polanyi関係係数から,触媒反応性を考察した。金属(111)面上の反応の速度論的同位体効果を計算した結果,Cu,Pt,Pdの順で小さくなった。金属(111)面上の解離反応の速度定数は,被覆率減少に従い小さくなった。

シソーラス用語： *表面 ,  *水素 ,  *解離吸着 ,  前駆体 ,  活性化エネルギー ,  反応速度定数 ,  触媒反応 ,  同位体効果 ,  被覆率 ,  *トンネル効果 ,  ニッケル ,  パラジウム ,  白金 ,  銅 ,  銀
準シソーラス用語： *活性水素 ,  *金属表面 ,  *水素分子 ,  速度論的同位体効果

分類 (3件)： 吸着の電子論  (CB12042Y) ,  貴金属触媒  (CB06122I) ,  金属の表面構造  (BK15020P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 金属表面 ,  活性水素 ,  解離 ,  トンネル ,  モデル