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J-GLOBAL ID：201302288825071278   整理番号：13A0084495

変調誘導熱プラズマを用いた炭素膜生成の変調波形依存性

Fabrication of Carbon Films Using Modulated Thermal Plasmas in Different Modulation Waveform.

著者 (6件)： 春多洋佑 (金沢大) ,  藤本健太 (金沢大) ,  堀田宗佑 (金沢大) ,  田中康規 (金沢大) ,  上杉喜彦 (金沢大) ,  石島達夫 (金沢大)
資料名： 電気学会プラズマ研究会資料  (電気学会研究会資料)
巻： PST-12  号： 107-118  ページ： 43-48  発行年： 2012年12月10日 
JST資料番号： Z0951A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Si基板上への炭素膜生成過程を研究するため,Ar-CH₄-H₂混合PMITP(パルス変調誘導熱プラズマ)またはAMITP(任意波形変調誘導熱プラズマ)をSi基板に1時間照射し,基板表面をSEMで観察し,ダイヤモンド膜の堆積の様子を確認した。分光器を用いたPMITP及びAMITPの分光測定の結果では,変調を大きくすることにより,無変調と比較しC₂分子及びH原子の発光強度が大きくなることを確認した。変調が大きいほど基板上にダイヤモンド粒子が細かく密に堆積した。

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  *薄膜成長 ,  ウエハ【IC】 ,  *プラズマ分光 ,  分子スペクトル ,  原子スペクトル ,  放射強度 ,  アルゴン ,  水素 ,  混合気体 ,  プラズマ曝露 ,  電子顕微鏡観察 ,  ダイヤモンド ,  パルス変調 ,  アルカン
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  ダイヤモンド薄膜 ,  プラズマ照射 ,  走査電子顕微鏡観察 ,  多結晶ダイヤモンド ,  発光強度

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

物質索引 (1件)： メタン

引用文献 (6件)：

• (1) T. Ishigaki, et al.: Technol.Advanced Master., 6, 111 (2005).
• (2) M. Shigeta, et al.: J. Phys. D: Appl. Phys. 44 174025 (2011)
• (3) Y. Tanaka, et al.: IEEE Trans. Plasma Sci., 35, pp. 197-203 (2007).
• (4) Y. Tanaka, et al.: Appl.phys.Lett,90,071502(2007).
• (5) Y. Tanaka, et al., Asia Pacific Conf. Plasma Sci. Technol. APCPST-10, OCC-08, 2010-039(2010)

タイトルに関連する用語 (5件)： 変調 ,  誘導熱プラズマ ,  炭素膜 ,  変調波 ,  依存性