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J-GLOBAL ID：201302288982552840   整理番号：13A1156484

粉末ターゲットからRFマグネトロンスパッタリングで作製したCd_xSn_1-xO膜の特性

The characteristics of Cd_xSn_1-xO films prepared by RF magnetron sputtering from powder targets

著者 (5件)： ZHOU Y.w. ,  LIU X. ,  WU F.y. ,  ZHANG C.k. ,  ZHANG X.y.
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 228  号： Supplement 1  ページ： S150-S154  発行年： 2013年08月15日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 混合した酸化物粉末ターゲットからRFマグネトロンスパッタリングで作製した透明導電性Cd_xSn_1-xO膜はターゲットと同様な組成を示した。膜の形態学的構造は粒子サイズが100nm以上の柱状であった。適切な金属比,即ちx=0.5と0.7の膜には新しい相が生成し,ナノ結晶と非晶質構造の混合物が存在した。また,厳しい格子変形を有するナノ結晶構造がx=0.2と0.8で認められ,全てのナノ結晶はドメインサイズが10~20nmであった。他の多成分膜は非晶質構造であった。可視波長域内の膜の平均透過率は純粋なCdO膜を除いて80%以上であった。これらのn型Cd_xSn_1-xO膜の電子濃度は10²⁰cm^-3オーダーであった。純粋なCdOとSnO₂膜を考慮せずに,非晶質構造膜は50cm²/Vs以上の高い移動度を示した。膜の電気抵抗率は膜中のCd比が増加すると10^-3から10^-4Ω・cmへ減少した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 基板 ,  ガラス ,  *粉体 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  スパッタ蒸着 ,  *蒸着膜 ,  *酸化物 ,  *カドミウム化合物 ,  *スズ化合物 ,  結晶構造 ,  結晶形態 ,  柱状晶 ,  ナノ結晶 ,  可視光 ,  *透過率 ,  濃度 ,  *キャリア密度 ,  キャリア移動度 ,  *電気抵抗率 ,  化合物半導体
準シソーラス用語： TCO【酸化物】 ,  電子濃度 ,  粉末

分類 (3件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X)

タイトルに関連する用語 (4件)： 粉末 ,  ターゲット ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  作製