文献

J-GLOBAL ID：201302289088393370   整理番号：13A1944355

ナノスクラッチしたグラフェン層におけるダングリングボンド誘起交差結合モデル

Dangling bond induced cross-linking model in nanoscratched graphene layers

著者 (4件)： ZHANG Qi (Key Lab. of Education Ministry for Modern Design and Rotor-Bearing System, School of Mechanical Engineering, Xi’an ...) ,  DIAO Dongfeng (Key Lab. of Education Ministry for Modern Design and Rotor-Bearing System, School of Mechanical Engineering, Xi’an ...) ,  DIAO Dongfeng (Nanosurface Sci. and Engineering Res. Inst., Coll. of Mechatronics and Control Engineering, Shenzhen Univ., Shenzhen ...) ,  YANG Lei (Key Lab. of Education Ministry for Modern Design and Rotor-Bearing System, School of Mechanical Engineering, Xi’an ...)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 237  ページ： 230-233  発行年： 2013年12月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノスクラッチ時のグラフェン中間層におけるダングリングボンド誘起交差結合を分子動力学法でシミュレートした。74GPaの垂直応力は中間層グラフェンの6角リングを壊し,隣接層間のsp²あるいはsp³を容易に作る不安定なダングリングボンドを形成した。交差結合密度はスクラッチ深さと共に大きくなり,より高いスクラッチ硬度を引き起こした。最大スクラッチ硬度は90GPaであった。垂直応力が90GPa以下の時,交差結合はスクラッチ後可逆的で,それ以上では異なるグラフェン層からの原子がお互い混合されて非晶質を形成することでスクラッチ硬度を急激に低下させた。これらの結果は,グラフェン基材料の構造と機械的特性に対する洞察を与えた。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ダングリングボンド ,  炭素材 ,  損傷 ,  法線応力 ,  計算機シミュレーション ,  ナノインデンテーション ,  分子動力学 ,  引かき硬さ ,  非晶質 ,  結合 ,  結合モデル ,  *グラフェン
準シソーラス用語： *ナノスクラッチ ,  交差結合 ,  分子動力学シミュレーション

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノスクラッチ ,  グラフェン ,  ダングリングボンド ,  誘起 ,  交差結合 ,  モデル