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J-GLOBAL ID：201302289878121060   整理番号：13A1337379

硬質炭素膜のトライボロジー DLC膜の製造技術の変遷と動向

著者 (1件)： 大原久典 (日本アイ・ティ・エフ 技術開発セ)
資料名： トライボロジスト  (Journal of Japanese Society of Tribologists)
巻： 58  号： 8  ページ： 545-550  発行年： 2013年08月15日 
JST資料番号： F0390A  ISSN： 0915-1168  CODEN： TORAEO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本報では,DLC膜の製造技術の変遷と動向について,DLC膜の研究開発の歴史をたどりながら,DLC膜の製法の特徴を紹介し解説した。主な内容項目を次に示した。1)はじめに:トライボロジー用途でのDLC(ダイヤモンド状炭素)膜の研究開発経緯の総論,2)DLCの主な製法と研究開発の歴史:炭素イオンビーム蒸着(Ion Beam Deposition,IBD)法,PCVD(プラズマCVD)法,炭化水素イオンIBD法,スパッタ蒸着法,およびスパッタ・PCVD複合法,陰極アーク式イオンプレーティング法,レーザアブレーション法,3)製法の開発経緯の整理:DLCの製法に関する研究開発の経緯(開発の経緯を年表形式で整理した図表),4)DLCの種類と特性:非晶質炭素の三元系相図,各種製法で形成されるDLC膜の特徴(DLCは水素量とsp³結合炭素量,クラスタ構造により主に材料が特徴づけられ,機械的(硬度,ヤング率,摩擦摩耗特性),光学的(屈折率,透過率/吸収率),電気的(導電率),化学的(昇温時の挙動,酸化挙動,各種物質との親和性など)な挙動の解明に必要最低限の情報となること),DLC膜の主な用途など。

シソーラス用語： *DLC膜 ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  *技術史 ,  イオンビーム蒸着 ,  レーザアブレーション ,  プラズマCVD ,  スパッタ蒸着 ,  イオンめっき ,  状態図 ,  *生産方式 ,  機械的性質 ,  *トライボロジー ,  摩耗特性 ,  化学的性質 ,  電気的性質 ,  光学的性質 ,  三元系相図 ,  摩擦特性 ,  *研究開発動向 ,  性質
準シソーラス用語： *研究動向

分類 (2件)： 潤滑一般  (QB02010S) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

引用文献 (31件)：

• ANGUS, J. C. Growth of Diamond Seed Crystals by Vapor Deposition. J. Appl. Phys. 1968, 39, 6, 2915
• DERYAGIN, B. V. Epitaxial Synthesis of Diamond inn the Metastable Region. Rus. Chem. Rev. 1970, 39, 9, 783
• MATSUMOTO, S. Vapor Deposition of Diamond Particles from Methane. Jpn. J. Appl. Phys. 1982, 21, part 2, L183
• TSAI, H-C. Critical Review, Characterization of Diamondlike Carbon Films and Their Application as Overcoats on Thin Film Media for Magnetic Recording. J. Vac. Sci. Technol., A. 1987, 5, 6, 3287
• ANGUS, J. C. Diamond and Diamond-Like Films. Thin Solid Films. 1992, 216, 1, 126

タイトルに関連する用語 (4件)： 硬質炭素膜 ,  トライボロジー ,  DLC膜 ,  動向