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J-GLOBAL ID:201302289981286329   整理番号:13A0342655

RFスパッタしたSnOx薄膜を用いた錫被覆銅合金接触に関する電気接触抵抗の推定

Electrical Contact Resistance Presumption about Tin-Coated Copper-Alloy Contacts Using RF Sputtered SnOx Thin Films
著者 (2件):
資料名:
巻: 58th  ページ: 270-274  発行年: 2012年 
JST資料番号: E0462C  ISSN: 1062-6808  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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複雑な表面構造に対する抵抗ネットワークモデルを構築し,錫鍍金した接触に焦点を当て,幾つかの二酸化錫膜の材料特性を調べた。一般に二酸化錫の電気抵抗率はキャリアの密度と移動度と共に有意に変化する。また,キャリアの密度と移動度は反応過程の条件に依存する。試料はRFマグネトロンスパッタリングにより作製した。少量の酸素は電気抵抗率を低下させたが,化学量論組成からの原子比率のずれは大きくなかった。無酸素で作製した試料は絶縁性であった。実際の錫鍍金接触の酸化表面層中の酸素空格子点の量を推定した。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
電気接点  ,  気相めっき 

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