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J-GLOBAL ID：201302290795254474   整理番号：13A0228945

小バッチ高スループット生産のためのマグネトロンスパッタリングシステム

Magnetron Sputtering System for Small Batch High Throughput Production

著者 (4件)： GIBSON D. (Applied Multilayers LLC, WY) ,  MARTIN J. (Applied Multilayers LLC, WY) ,  PLACIDO F. (Univ. West of Scotland, Paisley, GBR) ,  CHILD D. (Univ. West of Scotland, Paisley, GBR)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 55th  ページ： 470-474  発行年： 2012年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 小バッチ高スループットマグネトロンスパッタリングシステム「PlasmaCoat」について報告した。本システムは,小型で高度に自動化されており,最大スループット最小保全のため真空ロードロックを採用している。基板は蒸着中に回転する垂直ロータに搭載され,±1%以下の厚さ均一性を維持する。2種類の蒸着の形態が可能である。その一つは,別々のプラズマ源を用い,金属を蒸着し,続いて酸化する。もう一つは,クローズフィールドマグネトロン(CFM)形態に基づいている。CFM反応性マグネトロンスパッタリング法では,緻密で平滑なバルク材料と同等の光学特性を有する金属酸化物光学被覆の生成が可能である。

シソーラス用語： *薄膜成長 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタリング装置 ,  スループット ,  少量生産 ,  小型化 ,  自動化 ,  保全性 ,  真空 ,  膜厚 ,  均一性 ,  蒸着 ,  プラズマ源 ,  金属 ,  酸化 ,  酸化膜 ,  反応性スパッタリング ,  表面性状 ,  表面粗さ ,  光学的性質 ,  *金属酸化物
準シソーラス用語： 高スループット ,  光学特性

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： バッチ ,  高スループット ,  マグネトロンスパッタリング