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J-GLOBAL ID:201302290933017063   整理番号:13A1589444

溶液を用いたZnOナノロッドからの高い再現性の抵抗スイッチング特性の観察

Observation of Highly Reproducible Resistive-Switching Behavior from Solution-Based ZnO Nanorods
著者 (7件):
資料名:
巻: 13  号:ページ: 6212-6215  発行年: 2013年09月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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金基板上のゾルゲルシード層上に,スピンコーティング法によりZnOナノロッド層を成長させ,さらにその上に金の上部電極を蒸着した。この構成により,薄膜RRAMデバイスとしての性能を評価した。このZnOナノロッドによるデバイスは,垂直に形成されたフィラメント構造により,ZnO薄膜メモリに比較して,セットおよびリセット電圧の分布が狭く,また低電圧で動作した。また,このデバイスは7×104s以上のメモリ保持時間を示し,また5×103のセット/リセットサイクル後も安定であった。ZnOナノロッドを用いることでセット電圧を下げることができ,デバイスの信頼性を大きく改善することができた。
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分類 (3件):
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半導体集積回路  ,  酸化物薄膜  ,  金属-絶縁体-金属構造 
タイトルに関連する用語 (5件):
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