文献

J-GLOBAL ID：201302291596132609   整理番号：13A1086175

二つの基板に閉込められたゾル-ゲル共集合による開放表面を持つ秩序化マクロ多孔性シリカ構造

Two Substrate-Confined Sol-Gel Coassembled Ordered Macroporous Silica Structures with an Open Surface

著者 (5件)： GUO Wenhua (Nanjing Normal Univ., Nanjing, CHN) ,  GUO Wenhua (Changshu Inst. of Technol., Changshu, CHN) ,  WANG Ming (Nanjing Normal Univ., Nanjing, CHN) ,  XIA Wei (Nanjing Normal Univ., Nanjing, CHN) ,  DAI Lihua (Nanjing Normal Univ., Nanjing, CHN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 29  号： 20  ページ： 5944-5951  発行年： 2013年05月21日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾル-ゲル共集合法を用いて,開放表面を持つ逆オパール膜を調製した。300および700nmのポリスチレン球が分散するけい酸テトラエチル溶液に二つの接近した基板を浸漬し,基板上端から溶媒を蒸発させてシリカを生成させた。その後,焼成により三次元秩序化マクロ多孔性構造を持つシリカ逆オパール膜を得た。相互接続した多孔性の開放表面と,極めて均一な孔サイズを示した。逆オパール膜は,[111]方向において70%以上の深いバンドギャップと6%/nm以上のな急峻なバンド端を示した。入射角の調節により,擬ギャップの位置は720nmから887nmの範囲をチューニングすることができ,Braggの法則による計算値と一致した。本報のゾル-ゲル共集合法は,巨大ドメイン中に被覆層無しにシリカ逆オパールを調製し得ることを述べた。

シソーラス用語： 基板 ,  閉込め ,  *ゾル-ゲル法 ,  集合 ,  *表面 ,  *規則化 ,  *多孔性 ,  膜 ,  ポリスチレン ,  球 ,  焼成 ,  三次元 ,  構造 ,  *バンドギャップ ,  入射角 ,  Bragg反射 ,  光透過 ,  スペクトル ,  走査電子顕微鏡 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  *逆オパール

分類 (2件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  光物性一般  (BM08010A)

物質索引 (1件)： けい酸テトラエチル

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾル-ゲル ,  集合 ,  秩序化 ,  マクロ ,  多孔性シリカ