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J-GLOBAL ID：201302291922203210   整理番号：13A0974896

真空紫外光照射を用いたペルヒドロポリシラザンからポリ(エチレンテレフタレート)フィルム上のシリカ皮膜の低温合成

Low-temperature synthesis of silica coating on a poly(ethylene terephthalate) film from perhydropolysilazane using vacuum ultraviolet light irradiation

著者 (4件)： NAGANUMA Yasuhiro ,  HORIUCHI Takahiro ,  KATO Chihiro ,  TANAKA Satomi
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 225  ページ： 40-46  発行年： 2013年06月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリカ皮膜を,172nm波長の真空紫外線(VUV)放射により生成した活性酸素種(ROS)を用いて低温でポリ(エチレンテレフタレート)(PET)フィルム上に形成した。ROSを,酸素の存在下で,キセノンエキシマランプを用いて生成した。(SiH₂NH)の繰り返し単位からなるペルヒドロポリシラザン(PHPS)のキシレン溶液を,前駆体として用いた。減衰全反射フーリエ変換赤外分光法(ATR-FTIR)に基づく分析は,スピンコーティングPHPSフィルムのVUV照射は,その中で水素原子と窒素原子の除去および酸素原子の取り込みをもたらして,シリカネットワークを形成することを確認した。表面プロフィルメーターの測定では,未処理および照射処理PHPS皮膜の厚さには,大きな差は認められなかった。X線光電子分光法(XPS)の結果は,照射後により高いエネルギーへのSi2p結合エネルギーのシフトを示し,それは,ケイ素原子と結合するPHPSの窒素原子が酸素原子で置換されたことを示す。フィルムのXPS深さプロフィルは,炭素および窒素は,照射フィルム中にほとんど存在せず,フィルムの組成は,その厚さにわたって均一であることを示した。形成されたシリカ被膜は,シリコンリッチなシリカSiO_x(x<2)を形成し,無色透明であった。シリカ被覆フィルムの鉛筆硬度は6Hよりも高かった。ナノインデンテーション試験により,SiO_x皮膜が,PETフィルムに強く接着されており,SiO_x被覆PETフィルムは,未被覆PETフィルムよりも高い表面硬度と弾性率を有することを確認した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 放電ランプ ,  スピンコーティング ,  真空紫外線 ,  *ポリエチレンテレフタレート ,  *ポリシラザン ,  皮膜 ,  ナノインデンテーション ,  プラスチックフィルム ,  セラミック被覆 ,  弾性係数 ,  紫外線照射 ,  結合エネルギー ,  *化学合成 ,  セラミック膜 ,  密着性 ,  深さプロフィル ,  活性酸素 ,  キセノンランプ ,  アルキルベンゼン ,  前駆体 ,  膜厚 ,  硬度 ,  *二酸化ケイ素
準シソーラス用語： *シリカ ,  エキシマランプ ,  キシレン ,  活性酸素種 ,  *低温合成 ,  *ペルヒドロポリシラザン

分類 (1件)： 表面処理  (YH04112X)

タイトルに関連する用語 (9件)： 真空 ,  紫外光照射 ,  ペルヒドロポリシラザン ,  エチレン ,  テレフタレート ,  フィルム ,  シリカ ,  皮膜 ,  低温合成