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J-GLOBAL ID:201302293182732674   整理番号:13A0143849

パルス電着AgGaSe2膜の特性

Characteristics of pulse electrodeposited AgGaSe2 films
著者 (4件):
資料名:
巻: 24  号:ページ: 483-488  発行年: 2013年02月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ここでは,AgGaSe2膜を堆積するために,初めてパルス電着法を用いた。膜を室温でAnalar級10mM硝酸銀,10mM硝酸ガリウム,そして10mM SeO2を含む浴槽から堆積させた。堆積電圧を0.68V(SCE)に維持した。酸化膜被覆ガラス基板(5.0 ohm/sq)を基板として用いた。デューティサイクルを6-50%の範囲で変化させた。種々のデューティサイクルで堆積した薄膜のXRDプロファイルはAgGaSe2に対応するピークを示唆する。原子間力顕微鏡研究から表面ラフネスはデューティサイクルと共に0.95から1.25nmまで増加した。透過スペクトルは干渉縞を示した。2.71の屈折率が600-1000nmの波長範囲で観察された。電気化学インピーダンス研究は単一半円を示唆した。粒子境界抵抗はデューティサイクルの増加と共に減少した。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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固体デバイス製造技術一般  ,  太陽電池 
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