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J-GLOBAL ID:201302293297279116   整理番号:13A0549819

酸素アセチレントーチ下での積層ZrB2-SiCセラミックスのアブレーション性質

Ablative property of laminated ZrB2-SiC ceramics under oxyacetylene torch
著者 (5件):
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巻: 39  号:ページ: 4627-4631  発行年: 2013年05月 
JST資料番号: H0705A  ISSN: 0272-8842  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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2種類の積層ZrB2-SiCセラミックスが水系テープ成形法,ラミネーション,ホットプレスによって成功裏に作成できた。最初のものは,ZrB2+36vol% SiC層とZrB2+20vol% SiC層を5vol%B4C焼結助剤と共に交互に積層したものである。第2のものは2枚の相異なるZrB2-SiC層の間にアクアダッグ中間層を挿入して作成された。アブレーション試験を約3000°Cの温度において酸素アセチレントーチ炎で行った。いずれのセラミックスも20sのアブレーションでは巨視的にはアブレーションゼロを示した。これは顕著なアブレーション抵抗力を示すものである。しかし,顕微鏡観察によると第2のセラミックスのアブレーション酸化層は第一のものより薄い。それは主に表面アブレーション層の完全な高密度化に起因する。アクアダッグ層は高温度で積層ZrB2-SiCセラミックスの焼結を促進する。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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セラミック・磁器の性質 

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