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J-GLOBAL ID：201302293546299262   整理番号：13A1843737

Si(111)上のエピタキシャル遷移金属モノシリサイド薄膜の磁性の歪み安定化と膜厚依存性

Strain stabilization and thickness dependence of magnetism in epitaxial transition metal monosilicide thin films on Si(111)

著者 (2件)： GEISLER Benjamin (Univ. Duisburg-Essen, Duisburg, DEU) ,  KRATZER Peter (Univ. Duisburg-Essen, Duisburg, DEU)
資料名： Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics  (Physical Review. B. Condensed Matter and Materials Physics)
巻： 88  号： 11  ページ： 115433.1-115433.13  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： D0746A  ISSN： 1098-0121  CODEN： PRBMDO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： B20構造の3d遷移金属モノシリサイドMnSi,FeSiの構造,電子特性,磁性に対するエピタキシャル歪みの影響を密度汎関数法を用いて調べた。MnSi/Si(111)薄膜ヘテロ構造について膜厚を変えた計算を行った。その結果,厚膜極限において,歪みに誘起される体積膨張や磁気モーメントの増加,Curie温度の上昇を見いだした。これらの結果は実験結果とも一致し,シリサイドにおける電子相関の効果を示した。FeSiの軌道構造,状態密度を計算し,FeSiがエピタキシャル歪みで強磁性半金属状態になる可能性を示した。

シソーラス用語： エピタクシー ,  *磁性薄膜 ,  *ケイ化物 ,  *マンガン化合物 ,  *鉄化合物 ,  *電子構造 ,  密度汎関数法 ,  素子構造 ,  歪 ,  膜厚 ,  磁気モーメント ,  膨張 ,  Curie温度 ,  状態密度 ,  強磁性体 ,  半金属 ,  バンド構造
準シソーラス用語： Curie点 ,  *ケイ化マンガン ,  *ケイ化鉄 ,  シリサイド ,  ヘテロ構造 ,  体積膨張

分類 (1件)： その他の無機化合物の磁性  (BM06060P)

タイトルに関連する用語 (9件)： Si ,  エピタキシャル ,  遷移金属 ,  シリサイド ,  薄膜 ,  磁性 ,  歪み ,  安定化 ,  膜厚依存性