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J-GLOBAL ID：201302293846024109   整理番号：13A0146733

モノリシック薄膜光触媒ならびに反復ユニット構造を用いた水素生成に対するその適用

Monolithic film photocatalyst and its application for hydrogen production with repeated unit structures

著者 (3件)： HONG Eunpyo ,  CHOI Juseok ,  KIM Jung Hyeun
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 527  ページ： 363-368  発行年： 2013年01月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素生成用不活性化薄膜光触媒への関心が増大している。本研究では,単純なモノリシック薄膜系を用いて,電子輸送経路における電子損失の最小化に対して,多様なセル配置を調べた。Ptと光触媒(CdS/TiO₂)との相対面積比も,限られた基板上で水素生成を最大化するための重要なパラメータである。著者らの光触媒系における最高の水素生成に対して,相対面積比(Pt/光触媒)は0.37であった。同一面積の単一ユニット構造と比べて,反復ユニット構造は,大きな光触媒面積で効率低下なしに高い量の水素を生成した。したがって,モノリシック大規模膜光触媒の適用においては,電子損失の最小化と限られた面積の有効利用とが,重要な因子であることを指摘した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光触媒 ,  *水素発生反応 ,  不活性化 ,  *薄膜 ,  一体構造 ,  エレクトロトランスポート ,  白金 ,  素子構造 ,  硫化カドミウム ,  酸化チタン ,  *多層 ,  反復配列 ,  電子顕微鏡観察 ,  透過型走査電子顕微鏡 ,  電流電圧特性 ,  損失 ,  ヌクレオチド配列
準シソーラス用語： 電子損失 ,  ヘテロ構造

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  光触媒 ,  反復 ,  水素生成