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J-GLOBAL ID：201302294326730678   整理番号：13A1386508

平面状素子応用に対する垂直整列した滑らかなZnOナノロッド薄膜

Vertically aligned smooth ZnO nanorod films for planar device applications

著者 (10件)： SINGH D. (Univ. Bolton, Bolton, GBR) ,  NARASIMULU A. A. (Univ. Bolton, Bolton, GBR) ,  GARCIA-GANCEDO L. (Univ. Cambridge, Cambridge, GBR) ,  FU Y. Q. (Univ. West of Scotland, Paisley, GBR) ,  HASAN T. (Univ. Cambridge, Cambridge, GBR) ,  LIN S. S. (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN) ,  GENG J. (Univ. Bolton, Bolton, GBR) ,  SHAO G. (Univ. Bolton, Bolton, GBR) ,  LUO J. K. (Univ. Bolton, Bolton, GBR) ,  LUO J. K. (Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名： Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices  (Journal of Materials Chemistry C. Materials for Optical, Magnetic and Electronic Devices)
巻： 1  号： 14  ページ： 2525-2528  発行年： 2013年04月14日 
JST資料番号： W2383A  ISSN： 2050-7526  CODEN： JMCCCX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固体素子開発に関連して,本研究では,平面状素子応用に対する垂直整列した滑らかなZnOナノロッド薄膜を,化学溶液法によりシリコン(002)基板上に成長させて,特性を調べた。キャラクタリゼーションには走査電子顕微鏡法および光ルミネセンス測定を用いた。その結果に基づいて,この薄膜は,孤立したZnOナノロッドよりも遥かに強い光ルミネセンス発光を同一条件下で示すことを記した。この薄膜上に大面積弾性表面波素子を,伝統的なフォトリソグラフィーを用いて作製した。この素子は,Sezawa波およびその高調波からなる2個の共鳴モードを示した。

シソーラス用語： *ナノロッド ,  *化合物半導体 ,  *酸化亜鉛 ,  *半導体薄膜 ,  溶液成長 ,  基板 ,  ケイ素 ,  電子顕微鏡観察 ,  走査電子顕微鏡 ,  *光ルミネセンス ,  発光スペクトル ,  弾性表面波素子 ,  フォトリソグラフィー ,  垂直配向
準シソーラス用語： 化学溶液法 ,  垂直整列

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

タイトルに関連する用語 (4件)： 応用 ,  垂直整列 ,  ZnOナノロッド ,  薄膜