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J-GLOBAL ID：201302294629494985   整理番号：13A1007991

界面力下のグラフェン膜での同期引込不安定性の観測

Observation of Pull-In Instability in Graphene Membranes under Interfacial Forces

著者 (10件)： LIU Xinghui (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  BODDETI Narasimha G. (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  SZPUNAR Mariah R. (Univ. Miami, Florida, USA) ,  WANG Luda (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  RODRIGUEZ Miguel A. (Columbia Univ., New York, USA) ,  LONG Rong (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  LONG Rong (Univ. Alberta, Alberta, CAN) ,  XIAO Jianliang (Univ. Colorado, Colorado, USA) ,  DUNN Martin L. (Singapore Univ. Technol. and Design, Singapore) ,  BUNCH J. Scott (Univ. Colorado, Colorado, USA)
資料名： Nano Letters  (Nano Letters)
巻： 13  号： 5  ページ： 2309-2313  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： W1332A  ISSN： 1530-6984  CODEN： NALEFD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 単一層または少数層グラフェン膜超薄機械構造で製作したほぼ平行なプレート上の界面力を求める,新しい実験法を示した。SiO_xまたは金で覆われたサーキュラポストの上部約10~20nmの位置にグラフェン膜を置き,膜がポストに付着する臨界点までの圧力差を測定する。AFMで変形膜を観察し,理論モデルと合わせて,グラフェン-SiO_x及びグラフェン-金の界面力の大きさを導いた。界面力は距離の4乗に逆比例し,計算した遠距離van der Waals力の値と一致する。相互作用力は層の数に線形に増加する。

シソーラス用語： *界面張力 ,  *炭素材 ,  不安定性 ,  *酸化ケイ素 ,  *金 ,  圧力 ,  原子間力顕微鏡 ,  モデル ,  van der Waals力 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： AFM【顕微鏡】 ,  圧力差 ,  理論モデル

分類 (3件)： 無機化合物一般及び元素  (CD01010D) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固-固界面  (CB12060M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面 ,  グラフェン膜 ,  引込不安定性 ,  観測