文献

J-GLOBAL ID：201302296115308344   整理番号：13A0561629

薄いポリマー二分子層のパターン誘導脱濡れにおけるモルフォロジーの制御

Control of Morphology in Pattern Directed Dewetting of a Thin Polymer Bilayer

著者 (7件)： ROY Sudeshna (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  BISWAS Debarati (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  SALUNKE Namrata (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  DAS Ajit (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  VUTUKURI Pavanaphani (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  SINGH Ravdeep (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND) ,  MUKHERJEE Rabibrata (Indian Inst. of Technol., West Bengal, IND)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 46  号： 3  ページ： 935-948  発行年： 2013年02月12日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低表面エネルギーγ_Sの回折格子幾何学をもつ組織分布的にパターン形成した基質上の薄いポリマー二分子層の脱濡れとパターン形成を研究した。互いに排他的な溶媒を用いて,ポリスチレン(PS)上層とポリメタクリル酸メチル(PMMA)底層からなる二分子層を,パターン化基質への直接逐次スピンコーティングによって調製した。コーティング条件に従い,被覆二分子層に3つの異なる初期モルフォロジーが見られた。タイプ1は,不連続な表層の下の不連続な底層と基質溝に閉じ込められたポリマースレッドをもたらし,タイプ2は,連続表層の下の基質溝に閉じ込められた底層ポリマー(PMMA)の不連続なスレッドをもたらし,およびタイプ3は,連続的底層と表層。実験結果はフィルムの初期の特に底層モルフォロジーが,最終的な脱濡れパターンに著しく影響することを明らかにした。

シソーラス用語： *二分子層 ,  *モルフォロジー ,  *高分子薄膜 ,  表面エネルギー ,  回折格子 ,  パターン形成 ,  *ポリスチレン ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  スピンコーティング ,  スレッド
準シソーラス用語： *脱濡れ

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリマー ,  二分子層 ,  誘導 ,  脱濡れ ,  モルフォロジー