文献

J-GLOBAL ID：201302296266427680   整理番号：13A1796719

高分子膜の表面張力波拘束誘起安定化

Capillary Wave Confinement-Induced Stabilization of Polymer Films

著者 (4件)： BANDYOPADHYAY Diya (Univ. Akron, Ohio, USA) ,  SINGH Gurpreet (Univ. Akron, Ohio, USA) ,  BECKER Matthew L. (Univ. Akron, Ohio, USA) ,  KARIM Alamgir (Univ. Akron, Ohio, USA)
資料名： ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 5  号： 10  ページ： 4006-4010  発行年： 2013年05月22日 
JST資料番号： W2329A  ISSN： 1944-8244  CODEN： AAMICK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分子膜の膜厚が分子レベルに近付くと,表面張力により表面は不安定化し,凹凸が形成される。ポリスチレン薄膜をPDMS型で140°C×24hナノインプリント成形し,急冷した際の,PS膜表面の状態を,型のチャネル高さと周期およびPS膜厚を変えて,調べた。その結果,型の周期が表面張力波長(約20μm)より小さいるほど,高さが膜厚よりも大きいほど,安定した表面が得られ,型形状がインプリントされた。一方,周期が表面張力波長とほぼ同じで,高さが膜厚より低い場合は,表面張力による型の脱濡れが生じ,PS表面に多数の孔が形成された。ひどい場合には,型で拘束しない場合とほぼ同じであった。周期が該波長より大きい場合は,フラット型の拘束と同様な形状を呈した。

シソーラス用語： *表面張力波 ,  押付成形 ,  濡れ ,  膜厚 ,  ポリスチレン ,  ポリジメチルシロキサン ,  定数 ,  *拘束 ,  パターン形成 ,  *高分子薄膜 ,  金型 ,  界面張力 ,  安定化 ,  *表面
準シソーラス用語： Hamaker定数 ,  *ナノインプリント ,  *脱濡れ ,  表面張力

分類 (3件)： ポリスチレン  (YH07120V) ,  その他の成形  (YH04090Q) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高分子膜 ,  表面張力波 ,  拘束 ,  誘起 ,  安定化