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J-GLOBAL ID:201302296628903833   整理番号:13A1894274

アンダポテンシャル電着水素の有限表面レドックス置換によるPt成長

Growth of Pt by surface limited redox replacement of underpotentially deposited hydrogen
著者 (4件):
資料名:
巻: 112  ページ: 813-823  発行年: 2013年12月01日 
JST資料番号: B0535B  ISSN: 0013-4686  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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吸着H,またはアンダポテンシャル電着したH(H-UPD)を用いてPt薄膜を成長させるために,有限表面レドックス置換(SLRR)方法を開発した。以前の報告したSLRR電着の研究とは対照的に,本研究で,非金属UPDシステムを用いた単一槽構造SLRRプロトコールの初めての応用について述べた。Pt成長を介在するためのH-UPDの利用は,標準Pt SLRRプロトコールで報告した可能な限りの媒体金属の取込を防止することで,環境に危害を加える化学の使用を最小限にする「グリーン」Pt電着に重要である。開路クロノポテンシオメトリー実験と水晶振動子微量天秤実験は,安定した置換挙動と化学量論的に予測したPt(II)-H交換比(1:2)に等しい収率を示した。Pt薄膜のサイクリックボルタンメトリー解析は,H-UPDのSLRRを用いた成長は,置換工程数と共に表面粗さの増加を引き起こすことを示した。電着したままの皮膜形態を,走査トンネル顕微鏡法を用いて解析した。さらに,SLRRで電着したPt皮膜の粗さを,二種類の過電圧で同じ溶液中で成長させた皮膜と比較した: 表面に吸着H(バルク電着)無しでH-UPDを浮遊させ,すなわち,H界面活性剤介在成長(SMG)。結果は,バルク電着とSMGで成長させたものより,約2倍低い粗さの皮膜を生成するSLRR法利用の明白な優位性を示した。提案した方法の普遍性は,二種類のPd表面上のPt皮膜成長によって確認された。すなわち,Au(Pd/Au)とPdナノキューブ上のPd超薄膜である。Pd構造体で30回の置換によって成長させたPt被覆層を,H-UPDとギ酸の酸化反応で試験した,それらの触媒活性から特性評価した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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電気化学反応  ,  金属薄膜 
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