抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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金めっきに関する連続講座の第六部で,前回(本誌2012年10号所載)の第三章三節の「特別なプロセスと応用」の後半の部分と第三章第四節の「めっき皮膜の除去」を次の項目に分けて掲載した。3.3)パルスめっき(本論,比較的高合金の金めっき,分散粒子を含む複合めっき,逆パルスめっき)。3.4)金めっきした接点のめっき皮膜の除去(3.4.1:一般論,3.4.2金とパラジウムの同時のストリップ,3.4.3:パラジウムの上の金の選択的な溶解,3.4.4:溶解剤としてのチオ尿素,3.4.5:マイクロエレクトロニックスにおける応用,3.4.6:Eloxpore上のめっき皮膜の部分的な再溶解,3.4.7:研磨断面の作製)。