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J-GLOBAL ID:201302297190992818   整理番号:13A1797651

グラフェンの化学蒸着と関連する応用に関するレビュー

Review of Chemical Vapor Deposition of Graphene and Related Applications
著者 (3件):
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巻: 46  号: 10  ページ: 2329-2339  発行年: 2013年10月 
JST資料番号: B0966A  ISSN: 0001-4842  CODEN: ACHRE4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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金属,特にNiやCu表面への化学蒸着(CVD)グラフェンの合成法とその応用についてレビューした。滑らかな表面を有し,粒界のない単結晶Ni(111)フィルムを用いるCVDにより,単層グラフェンを高収率で合成することに成功した。また,Cu表面へは炭素が溶解しないことから単層グラフェンが収率よく生成し,多層グラフェンが生成しやすいNiよりも優れた触媒であることを明らかにした。さらに,ポリメタクリル酸メチルを用いて金属からグラフェンシートを移す方法も開発した。Ni-グラフェンは有機太陽電池,Cu-グラフェンは電界効果トランジスタへの応用が期待できる。
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