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J-GLOBAL ID：201302297307163940   整理番号：13A0003748

フルホイスラーFe₂VAl薄膜の熱電変換特性

Thermoelectric Properties of Full-Heusler Type Fe₂VAl Thin Films

著者 (6件)： 西出聡悟 (株式会社日立製作所中央研究所) ,  黒崎洋輔 (株式会社日立製作所中央研究所) ,  山本浩之 (株式会社日立製作所中央研究所) ,  籔内真 (株式会社日立製作所中央研究所) ,  岡本政邦 (株式会社日立製作所中央研究所) ,  早川純 (株式会社日立製作所中央研究所)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 76  号： 9  ページ： 541-545 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 環境低負荷かつレアメタルレス性をあわせもつ高効率熱電変換材料のとして,Fe基フルホイスラー合金が期待される。本研究では,高いゼーベック係数を実現するために必須となるL21構造を有するFe₂VAlの作製と,その薄膜化による熱伝導率低減の可能性を調べることを目的とした。MgOシード層の適用と800°Cの加熱処理により,L21構造のFe₂VAl薄膜を作製できた。Fe₂VAl薄膜の熱伝導率は既報のバルクFe₂VAlよりも1/6に低減したことがわかった。それは,格子熱伝導率が大きく低減したためであり,薄膜化によりフォノン散乱が増大すると理解できる。フルホイスラー合金の薄膜化により熱伝導率が大幅に減少することを実証した。

シソーラス用語： *熱電材料 ,  熱電気変換 ,  *電気特性 ,  *ホイスラー合金 ,  *鉄合金 ,  バナジウム含有合金 ,  アルミニウム含有合金 ,  省資源 ,  減少 ,  負荷 ,  結晶構造 ,  金属間化合物 ,  薄膜 ,  下層 ,  酸化マグネシウム ,  スパッタ蒸着 ,  マグネトロンスパッタリング ,  熱伝導率 ,  電気抵抗 ,  擬ギャップ ,  電子状態 ,  密度汎関数法 ,  計算 ,  X線回折分析 ,  格子定数 ,  電子顕微鏡観察 ,  散乱
準シソーラス用語： 熱電特性 ,  環境負荷低減 ,  L21型金属間化合物 ,  シード層 ,  格子熱伝導率 ,  密度汎関数計算 ,  透過型電子顕微鏡法 ,  フォノン散乱

分類 (1件)： 熱電デバイス  (NC03090J)

引用文献 (25件)：

• 1) W. J. Xie, X. F. Tang, G. Chen, Q. Jin and Q. J. Zhang: Proc. Int. Conf. on Thermoelectrics, (IEEE, 2007) pp. 23–26.
• 2) T. J. Zhu, Y. Q. Cao, F. Yan and X. B. Zhao: Proc. Int. Conf. on Thermoelectrics, (IEEE, 2007) pp. 7–10.
• 3) D.-Y. Chung, T. Hogan, P. Brazis, M. R.-Lane, C. Kannewurf, M. Bastea, C. Uher and M. G. Kanatzidis: Science 287(2000) 1024.
• 4) J. P. Heremans, V. Jovovic, E. S. Toberer, A. Saramat, K. Kurosaki, A. Charoenphakdee, S. Yamanaka and G. J. Snyder: Science 321(2008) 554–557.
• 5) H. Wang, J. F. Li, C.-W. Nan, M. Zhou, W. Liu, B.-P. Zhang and T. Kita: Appl. Phys. Lett. 88(2006) 092104.

タイトルに関連する用語 (2件)： 薄膜 ,  熱電変換