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J-GLOBAL ID：201302298213482363   整理番号：13A1542458

半導体クリーンルーム空気中のpptレベルトリメチルシラノールの予備濃縮GC/MS分析に直結した全空気キャニスタ試料採取

Whole Air Canister Sampling Coupled with Preconcentration GC/MS Analysis of Part-per-Trillion Levels of Trimethylsilanol in Semiconductor Cleanroom Air

著者 (1件)： HERRINGTON Jason S. (Restek Corp., Pennsylvania, USA)
資料名： Analytical Chemistry  (Analytical Chemistry)
巻： 85  号： 16  ページ： 7882-7888  発行年： 2013年08月20日 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 空気中の痕跡量トリメチルシラノールを試料採取し,分析する目的で,全空気キャニスタ使用をベースにしたアプローチを提案した。トリメチルシラノールのような揮発性メチルシロキサン種が光学的もやを生じる懸念があるため半導体産業における空気中の存在が注目されている。これまでの研究においてシロキサンのための全空気キャニスタ試料採取法がすでに開発されているが,それはppm~ppb範囲のシロキサン類を対象にしたものであった。本研究では,空気中のトリメチルシラノールを現場試料採取するための全空気キャニスタを開発し,予備濃縮ガスクロマトグラフィー/質量分析に適用した。その結果,このキャニスタでの試料採取のダイナミックレンジ,検出限界,測定精度,回収率は良好であり,室温で4日間にわたる保存も安定していることが分かった。シリコンウエハ構築設備2箇所で採取した試料のトリメチルシラノール量は10.0から9,120pptの範囲にあった。この方法にはいくつかの限界があるが,他の方法よりも優れた性能を有することから,半導体産業の要求をはるかに超えたクリーンルームでの痕跡量レベルのトリメチルシラノールをモニタリングすることが可能であるとみられる。

シソーラス用語： *シラノール誘導体 ,  *試料採取 ,  *キャニスタ ,  *GC-MS分析 ,  シロキサン ,  痕跡量成分 ,  空気 ,  クリーンルーム ,  半導体工業 ,  ウエハ【IC】 ,  定量分析 ,  予備濃縮 ,  キャリブレーション ,  ダイナミックレンジ ,  検出限界 ,  測定精度 ,  回収率 ,  安定性 ,  現場試験 ,  もや ,  相対湿度 ,  環境モニタリング
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  シロキサン類 ,  周囲空気

分類 (3件)： 有機半金属・有機金属化合物の結晶構造  (BK08040B) ,  分析化学一般  (CC02010H) ,  各種分析法一般  (CC08010X)

物質索引 (2件)： トリメチルシラノール ,  ヘキサメチルジシラザン

タイトルに関連する用語 (8件)： クリーンルーム ,  空気中 ,  トリメチルシラノール ,  予備濃縮 ,  GC ,  MS分析 ,  キャニスタ ,  試料採取