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J-GLOBAL ID：201302298671678870   整理番号：13A0840816

二層薄膜及びNi蒸着多孔質アルミナを用いるキシレンセンサ

Xylene sensor using double-layered thin film and Ni-deposited porous alumina

著者 (3件)： AKIYAMA Tomo (Tokyo Denki Univ., 5 Senju-Asahi-cho, Adachi-ku, Tokyo 120-8551, JPN) ,  ISHIKAWA Yurie (Tokyo Denki Univ., 5 Senju-Asahi-cho, Adachi-ku, Tokyo 120-8551, JPN) ,  HARA Kazuhiro (Tokyo Denki Univ., 5 Senju-Asahi-cho, Adachi-ku, Tokyo 120-8551, JPN)
資料名： Sensors and Actuators. B. Chemical  (Sensors and Actuators. B. Chemical)
巻： 181  ページ： 348-352  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： T0967A  ISSN： 0925-4005  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 二層金属酸化物薄膜及び多孔質アルミナ上に蒸着したNi触媒を用いるキシレンセンサが示される。センシング膜は二層構造を有する;最初の層はFe₂O₃+TiO₂(5mol%)+MgO(4mol%)であり,二番目の層はWO₃+TiO₂(10mol%)である。最初及び二番目の層の厚みはそれぞれ,200nm及び70nmである。両応答及び安定性は二層構造を採用することで改良される。Ni蒸着多孔質アルミナはセンシング膜上に置かれる。多孔質アルミナの細孔は円柱状である。気孔の内径及び高さはそれぞれ,約200nm及び60μmである。キシレンガスは多孔質アルミナのNi蒸着細孔を通過してセンシング膜に達する。蒸着Niの触媒作用はキシレンガスの化学活性及びセンシング膜上のその吸着量を高める。このようにセンサはキシレンガスに非常に感知し易い。センサは0.07ppmのように低い濃度でキシレンを検出することが出来る。更にキシレンガスの選択性は満足すべきものである。応答及び回復時間は340°Cの操作温度でそれぞれ,20秒及び300秒である。全ての膜及びNiはrfスパッタリングで蒸着され,一方,多孔質アルミナはアルミニウムの陽極酸化で形成される。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *アルミナ ,  *多孔質体 ,  *アルキルベンゼン ,  *多層膜 ,  *蒸着膜 ,  RFスパッタリング ,  酸化鉄 ,  酸化チタン ,  酸化マグネシウム ,  酸化タングステン ,  *ニッケル ,  *ガスセンサ ,  ニッケル触媒 ,  *多孔質アルミナ ,  *キシレン ,  *二重層
準シソーラス用語： *二層膜

分類 (1件)： 分析機器  (CC02020S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 二層 ,  薄膜 ,  Ni ,  蒸着 ,  多孔質アルミナ