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J-GLOBAL ID：201302299857300289   整理番号：13A0461294

蒸気および水を用いたイオン注入後のフォトレジスト剥離:蒸気雰囲気および気水混合スプレーにおける前処理

Post Ion-Implant Photoresist Stripping Using Steam and Water: Pre-treatment in a steam atmosphere and steam-water mixed spray

著者 (4件)： ISAGO Y ,  HAYASHIDA A ,  WATANABE M ,  SANADA T
資料名： ULTRA CLEAN PROCESSING OF SEMICONDUCTOR SURFACES IX
巻： 145-146  ページ： 273-276  発行年： 2009年 
JST資料番号： O6515A  ISSN： 1012-0394  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： その他 (ZZZ)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： 蒸気 ,  水 ,  イオン注入 ,  フォトレジスト ,  雰囲気 ,  気 ,  スプレー