特許
J-GLOBAL ID：201303001285985018
パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (17件)：
蔵田 昌俊
, 高倉 成男
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 井関 守三
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-209918
公開番号（公開出願番号）：特開2013-073974
出願日： 2011年09月26日
公開日（公表日）： 2013年04月22日
要約：
【課題】微細なブロックコポリマーのミクロ相分離パターンを得ることができるパターン形成方法を提供する。【解決手段】被加工膜11上に、表面エネルギーの異なる第1の表面エネルギー調整層12c、第2の表面エネルギー調整層12dが交互に平行に並んだガイドパターンを形成し、ガイドパターン上に第1および第2のブロック鎖を含むブロックコポリマー層13を形成し、ブロックコポリマーをミクロ相分離させ、ガイドパターンに基づいてブロックコポリマーを配向させる。第1の表面エネルギー調整層12cは第1のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、第2の表面エネルギー調整層12dは第2のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、ガイドパターンの周期はブロックコポリマーの周期の3以上の整数倍であり、第1の表面エネルギー調整層12c、第2の表面エネルギー調整層12d各々の幅は、ブロックコポリマー半周期の3以上の奇数倍である。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
被加工膜上に、表面エネルギーの異なる第1の表面エネルギー調整層および第2の表面エネルギー調整層が交互に平行に並んだガイドパターンを形成し、
前記ガイドパターン上に、第1および第2のブロック鎖を含むブロックコポリマー層を形成し、
前記ブロックコポリマーをミクロ相分離させ、前記ガイドパターンに基づいて前記ブロックコポリマーを配向させることにより、前記第1のブロック鎖の層と前記第2のブロック鎖の層が前記ガイドパターンと平行に交互に並び、前記第1のブロック鎖の層と前記第2のブロック鎖の層の界面が前記被加工膜の表面に対して垂直であるラメラ相を形成する
ことを含むパターン形成方法であって、
前記第1の表面エネルギー調整層は、前記第1のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、
前記第2の表面エネルギー調整層は、前記第2のブロック鎖と略同一の表面エネルギーを有し、
前記ガイドパターンの周期は、前記ブロックコポリマーの周期の3以上の整数倍であり、
前記第1の表面エネルギー調整層および前記第2の表面エネルギー調整層の各々の幅は、前記ブロックコポリマーの半周期の3以上の奇数倍である
ことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502D
, G03F7/20 521
