特許

J-GLOBAL ID：201303003468244010

インプリント装置、インプリント方法及びデバイス製造方法

発明者： 千葉 啓子 ,  山下 敬司 ,  渡辺 豊 ,  小松 香奈江 ,  田村 泰之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-273778
公開番号（公開出願番号）：特開2013-145879
出願日： 2012年12月14日
公開日（公表日）： 2013年07月25日
要約：

【課題】 基板上に供給された複数の成分を含むインプリント材の組成の変化を低減するインプリント装置を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のインプリント装置は、パターンが形成された型と基板上に供給された複数の成分からなるインプリント材とを接触させ、前記インプリント材を硬化させることで、パターンをインプリント材に転写するインプリント装置であって、インプリント材が供給された基板上に、インプリント材に含まれる成分のうち複数の成分を含む気体を供給する供給部と、インプリント材に含まれる成分の割合を表すデータを取得する取得部と、を有し、取得された割合を表すデータから、供給部が供給する気体の成分の割合を決定することを特徴とする。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

パターンが形成された型と基板上に供給された複数の成分からなるインプリント材とを接触させ、前記インプリント材を硬化させることで、前記パターンを前記インプリント材に転写するインプリント装置であって、 前記インプリント材が供給された基板上に、前記インプリント材に含まれる成分のうち複数の成分を含む気体を供給する供給部と、 前記インプリント材に含まれる成分の割合を表すデータを取得する取得部と、を有し、該取得された割合を表すデータから、前記供給部が供給する気体の成分の割合を決定することを特徴とするインプリント装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (2件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z

Fターム (17件)：

4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AM25 ,  4F209AM32 ,  4F209AR02 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PH01 ,  4F209PH30 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA33