特許
J-GLOBAL ID:201303005632284330

ガス分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡辺 尚 ,  小野 由己男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-286647
公開番号(公開出願番号):特開2013-134229
出願日: 2011年12月27日
公開日(公表日): 2013年07月08日
要約:
【課題】配管内を流れるガス濃度を光学測定系により測定するガス分析装置において、温度分布の不均一に基づく熱レンズ効果現象の発生を防止し、測定精度を高める。【解決手段】ガス分析装置は、プローブ管11と、遮蔽板21とを備えている。プローブ管11は、配管内を流れる試料ガスの流路と交差するように、配管側壁51の取付部52に取り付けられる。プローブ管11の内部中空を通過する測定光により、ガス濃度分析が行われる。遮蔽板21は、試料ガスがプローブ管11と取付部52との間隙56に流入するのを抑制する位置に設けられている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
配管内を流れる試料ガスの所定の測定領域に測定光を投光し及び/または前記測定領域からの測定光を受光するための光路を含み、配管側壁を貫通して取り付けられる管状部材と、 前記測定領域内の試料ガスに対して前記測定光を投光し及び/または前記測定領域からの測定光を受光する光学系部材と、 前記測定光の光路上であって前記光学系部材と前記測定領域との間に位置する領域にパージガスを供給するためのパージガス供給部と、 前記試料ガスが前記管状部材と前記配管側壁との間隙に流入することを抑制する位置に設けられた少なくとも1つの遮蔽板と、 を備えたガス分析装置。
IPC (1件):
G01N 21/61
FI (1件):
G01N21/61
Fターム (15件):
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059CC04 ,  2G059CC05 ,  2G059CC06 ,  2G059CC19 ,  2G059EE01 ,  2G059GG01 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ12 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ26 ,  2G059KK01 ,  2G059NN02
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 煤塵濃度測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-107578   出願人:石川島播磨重工業株式会社
審査官引用 (1件)
  • 煤塵濃度測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2003-107578   出願人:石川島播磨重工業株式会社

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