特許
J-GLOBAL ID:201303006384571367
触媒系
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
恩田 博宣
, 恩田 誠
, 本田 淳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-281721
公開番号(公開出願番号):特開2013-063440
出願日: 2012年12月25日
公開日(公表日): 2013年04月11日
要約:
【課題】配位子、および酸のレベルが比較的高いが、先行技術の欠点を、少なくともある程度は処理および緩和した触媒系を確立する。【解決手段】エチレン系不飽和化合物のカルボニル化を触媒することが可能な触媒系であって、a)パラジウム金属またはその化合物、b)二座ホスフィン配位子、およびc)18°Cの水溶液中で測定して4未満のpKaを有する酸を組み合わせることにより得られ、該配位子と該金属または該金属化合物中の金属との比は、5:1から750:1の範囲内であり、該酸は、該配位子に対して2:1を超えるmol過剰で存在する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
エチレン系不飽和化合物のカルボニル化を触媒することが可能な触媒系であって、
a)パラジウム金属またはその化合物、
b)二座ホスフィン配位子、および
c)18°Cの水溶液中で測定して4未満のpKaを有する酸
を組み合わせることにより得られ、
該配位子と該金属または該金属化合物中の金属との比は、5:1から750:1の範囲内であり、該酸は、該配位子に対して2:1を超えるmol過剰で存在する、触媒系。
IPC (3件):
B01J 31/24
, C07C 67/38
, C07C 69/24
FI (3件):
B01J31/24 Z
, C07C67/38
, C07C69/24
Fターム (29件):
4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169BA21A
, 4G169BA21B
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BE27A
, 4G169BE27B
, 4G169BE36A
, 4G169BE36B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169CB25
, 4G169CB72
, 4G169DA02
, 4G169FA01
, 4G169FB05
, 4G169FB77
, 4H006AA02
, 4H006AC48
, 4H006BA25
, 4H006BA81
, 4H006BE40
, 4H006KA34
, 4H006KC12
, 4H039CA66
, 4H039CF10
引用特許:
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