特許
J-GLOBAL ID：201303006873027793
ガラス素子用成形金型の製造方法、ガラス素子用成形金型、光学素子の成形方法、及びガラスブランクの成形方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福田 充広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-062661
公開番号（公開出願番号）：特開2013-136517
出願日： 2013年03月25日
公開日（公表日）： 2013年07月11日
要約：
【課題】結晶面配向による選択的エッチング等を排し、リサイクル回数を増やし金型寿命を延ばすことができるガラス素子用成形金型の製造方法を提供すること。【解決手段】CVD-SiC膜層22,32に形成される基準面SS上に、PVD法を用いて非常に薄いSiC中間膜層23,33を形成し、ストイキオメトリのずれのない膜を形成することで、酸・アルカリ等の溶液に対する耐性を著しく高めることができる。また、PVD法は成膜温度もCVDに比べて低く、結晶粒も成長せず、特定の結晶面の選択エッチングも排除できる。さらに、CVD-SiC膜層22,32の精密加工後にSiC中間膜層23,33を形成するため、下層のCVD-SiC膜層22,32の成膜自由度を高くすることができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
SiCで形成されたガラス素子の成形転写面の土台となる母材の表面上にCVD法にてCVD-SiC膜層を形成する工程と、
前記CVD-SiC膜層にガラス素子の成形転写面に対応する基準面を形成する工程と、
前記基準面を形成した前記CVD-SiC膜層の上にPVD法にてSiC中間膜層を形成する工程と、
前記SiC中間膜層の上に保護膜を形成する工程と、
を備えることを特徴とするガラス素子用成形金型の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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