特許
J-GLOBAL ID:201303006880050717
空間の消毒
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-043733
公開番号(公開出願番号):特開2013-150814
出願日: 2013年03月06日
公開日(公表日): 2013年08月08日
要約:
【課題】バクテリア、菌類、ウィルス、あるいは真菌胞子または細菌胞子によって汚染されうる体積または体積を境界付けている表面を消毒するための方法を提供する。【解決手段】過酸化水素水超音波ネブライザ6に、ネブラントに溶媒を滅菌剤に優先して気化させるために充分であるように、加熱素子手段13、赤外線、レーザ、マイクロ波、RF、または他の放射生成手段、誘導加熱手段、熱交換器手段、伝導手段、対流手段、あるいは機械的なエネルギー伝達手段などを或る時間にわたって加え、ネブラント粒子における滅菌剤の濃度を高め、体積または表面を、前記ネブラントに前記体積または表面を滅菌するための充分な時間にわたって曝すとともに、気化させた溶媒を大気圧以上のガス流から取り除き、必要であればネブラントを70°C未満へと冷却する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
体積または体積を境界付けている表面を消毒するための方法であって、
(1)溶媒中に殺生物剤を含んでなる溶液であって、前記滅菌剤よりも低い沸点を有する溶媒を含んでいる溶液をネブライズし、ガス流中の微細に分割された溶液の粒子からなるネブラントを形成するステップ、
(2)前記ネブラントに、溶媒を滅菌剤に優先して気化させるために充分であるように或る種のエネルギーを或る時間にわたって加えることで、ネブラント粒子における滅菌剤の濃度を高めるステップ、
(3)大気圧以上においてガス流からステップ2において気化させた溶媒を取り除き、必要であればネブラントを70°C未満へと冷却するステップ、および
(4)前記体積または表面を、ステップ3からのネブラントに、前記体積または表面を滅菌するための充分な時間にわたって曝すステップ
を含んでいる方法。
IPC (4件):
A61L 2/18
, A61L 9/01
, B01D 53/22
, A61L 9/14
FI (4件):
A61L2/18
, A61L9/01 E
, B01D53/22
, A61L9/14
Fターム (25件):
4C058AA02
, 4C058AA19
, 4C058AA24
, 4C058AA30
, 4C058BB07
, 4C058CC02
, 4C058DD03
, 4C058DD04
, 4C058DD11
, 4C058JJ07
, 4C058JJ24
, 4C080AA07
, 4C080BB05
, 4C080BB06
, 4C080HH03
, 4C080JJ01
, 4C080KK06
, 4C080LL04
, 4C080MM01
, 4C080QQ01
, 4C080QQ12
, 4C080QQ17
, 4D006GA41
, 4D006PA01
, 4D006PB17
引用特許:
前のページに戻る