特許
J-GLOBAL ID：201303006962677378
統合ガス化制御システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
荒川 聡志
, 小倉 博
, 黒川 俊久
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-570265
特許番号：特許第5259031号
出願日： 1999年09月01日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 酸素と炭化水素供給原料を主に水素(H2)と一酸化炭素(CO)からなる合成ガスに変換するガス化プラントにおいて酸素対炭素比(O/C)を制御する方法であって、当該方法が、
仕込制約に基づいて、ガス化炉の望ましい出力を表す合成ガス要求量を決定するステップと、
酸素対炭素比(O/C)設定値及び合成ガス要求量に基づいて、酸素制御設定値及び炭素制御設定値を決定するステップと、
酸素制御設定値及び炭素制御設定値に基づいてそれぞれガス化プラント内の酸素弁及び炭素弁を調整し、もって酸素対炭素比(O/C)を制御するステップと
を含んでおり、前記仕込制約に基づいて、ガス化炉の望ましい出力を表す合成ガス要求量を決定するステップが、
単位マクロ変換によって炭素流量を要求量コントローラ信号に変換するステップと、
PIDコントローラで要求量コントローラ信号及び要求量コントローラ設定値を受信してPIDコントローラ信号を生成させるステップと、
信号選択器でPIDコントローラ信号及び自動要求量値を受信して選択要求量値を生成させるステップと、
ロー選択器で選択要求量値及び合成ガス要求量オーバーライド値を受信して、仕込制約要求量値を生成させるステップと、
仕込制約要求量値をバイアス値に変換するステップと、
酸素流量をバイアス値でバイアスして合成ガス要求量を得るステップと
を含んでいる、方法。
IPC (3件)：
C10J 3/02 ( 200 6.01)
, C10J 3/46 ( 200 6.01)
, C10J 3/54 ( 200 6.01)
C10J 3/02 L
, C10J 3/02 H
, C10J 3/46 H
, C10J 3/46 L
, C10J 3/54 H
, C10J 3/54 L
