特許

J-GLOBAL ID：201303007259694852

ダマシン構造におけるアルミニウム/銅及びチタンを研磨するための組成物

発明者： ブルシック,ブラスタ ,  トンプソン,クリストファー ,  ディサード,ジェフリー
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (6件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  小林 良博 ,  出野 知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-123913
公開番号（公開出願番号）：特開2013-179360
出願日： 2013年06月12日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
要約：

【課題】本発明は、基材を平坦化又は研磨するための組成物及び方法を提供する。【解決手段】この組成物は、任意選択でポリマーで処理された、アルミナ粒子からなる研磨剤、α-ヒドロキシカルボン酸、少なくとも1つの金属を酸化する酸化剤、ポリアクリル酸、任意選択でカルシウム含有化合物、任意選択で殺生物剤、任意選択でpH調整剤、及び水を含む。本発明の方法では、この組成物を用いて基材が化学機械研磨される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)任意選択でポリマーで処理された、アルミナ粒子からなる研磨剤、 (b)α-ヒドロキシカルボン酸、 (c)少なくとも1つの金属を酸化する酸化剤、 (d)0.01wt%〜0.2wt%のポリアクリル酸、 (e)任意選択でカルシウム含有化合物、 (f)任意選択で殺生物剤、 (g)任意選択でpH調整剤、及び (h)水 から本質的になり、2〜6のpHを有する、化学機械研磨用組成物。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (5件)：

H01L21/304 622D ,  H01L21/304 622X ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (21件)：

3C058AA07 ,  3C058CB02 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17 ,  5F057AA09 ,  5F057AA28 ,  5F057BA22 ,  5F057BB23 ,  5F057BB24 ,  5F057BB33 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA08 ,  5F057EA16 ,  5F057EA21 ,  5F057EA22 ,  5F057EA29 ,  5F057EA32

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 研磨方法、配線形成方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-242750   出願人：株式会社日立製作所