特許

J-GLOBAL ID：201303007941881427

レジスト組成物

発明者： 増山 達郎 ,  向井 優一
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (2件)： 中山 亨 ,  坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-124086
公開番号（公開出願番号）：特開2012-252124
出願日： 2011年06月02日
公開日（公表日）： 2012年12月20日
要約：

【課題】パターンコラプスマージン(PCM)の優れたパターンが製造できるレジスト組成物の提供。【解決手段】式(I)で表される化合物(I)と、式(B1)で表される塩(B1)と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂と、溶剤とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

式(I)

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (25件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN67P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78 ,  4H006BT22 ,  4H006BU50