特許

J-GLOBAL ID：201303008337522814

プラズマ処理装置

発明者： 松原 克夫 ,  安東 靖典
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 恵二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-154604
公開番号（公開出願番号）：特開2013-020871
出願日： 2011年07月13日
公開日（公表日）： 2013年01月31日
要約：

【課題】 誘導結合型の装置であって、アンテナの実効インダクタンスを小さくしてプラズマ電位を低く抑えることができ、しかも当該アンテナによってその長手方向におけるプラズマ密度分布を制御することができるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 平面形状がまっすぐなアンテナ30を、基板2の表面に立てた垂線3に沿う方向である上下方向Zに互いに接近して配置されていて、高周波電流IR が互いに逆向きに流される往復導体31、32によって構成している。往復導体31、32間の上下方向Zの間隔Dを、アンテナ30の長手方向Xにおいて変化させている。かつ、上側の導体32の近傍に、アンテナ30の長手方向Xに移動可能な複数の磁性体70を設けている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

平面形状が実質的にまっすぐなアンテナに高周波電流を流すことによって真空容器内に誘導電界を発生させてプラズマを生成し、当該プラズマを用いて基板に処理を施す誘導結合型のプラズマ処理装置であって、 前記アンテナを、前記基板の表面に立てた垂線に沿う方向に互いに接近して配置されていて、前記高周波電流が互いに逆向きに流される往復導体によって構成し、 前記往復導体間の前記垂線に沿う方向の間隔を、前記アンテナの長手方向において変化させており、 かつ前記往復導体の前記プラズマとは反対側の導体の近傍に、それぞれが前記アンテナの長手方向に移動可能な1以上の磁性体を設けている、ことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  C23C 16/505

FI (4件)：

H05H1/46 L ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/31 C ,  C23C16/505

Fターム (19件)：

4K030AA06 ,  4K030AA13 ,  4K030AA14 ,  4K030BA29 ,  4K030BA40 ,  4K030BA44 ,  4K030FA04 ,  4K030KA02 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F045AA08 ,  5F045BB02 ,  5F045DP03 ,  5F045EH02 ,  5F045EH04 ,  5F045EH11