特許
J-GLOBAL ID：201303008712885016
基材上の塗布層の乾燥速度推定方法、及び、基材上の塗布層の乾燥速度分布を得る方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
梶 良之
, 須原 誠
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-038495
公開番号（公開出願番号）：特開2008-203045
特許番号：特許第4967129号
出願日： 2007年02月19日
公開日（公表日）： 2008年09月04日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基材と、前記基材の表面に塗布した塗布層と、前記基材の裏面に設けられた断熱材とを備えている部材における前記塗布層の表面に、下記(a1)又は下記(a2)を行った場合に、下記式(1)〜(3)のパラメータにそれぞれ対応した値を代入する工程と、
下記式(1)で得た塗布層表面の境膜伝熱係数hsを下記式(2)に代入して、t1秒後における塗布層内の水分の質量ww1を得る工程と、
下記式(1)で得た塗布層表面の境膜伝熱係数hsを下記式(3)に代入して、Δt秒間における塗布層内の水分の質量変化Δwwを得る工程と、
前記ww1及び前記Δwwを下記式(4)に適用して、前記塗布層の乾燥速度を推定する工程とを有していることを特徴とする基材上の塗布層の乾燥速度推定方法。
(a1)熱風加熱
(a2)放射加熱、誘導加熱、又は通電加熱のいずれか1つ以上と、熱風加熱
ここで、R:乾燥速度(kg-water/(m2-material・s))、A:塗布層の表面積(m2)、tF:乾燥終了時間(s)、ww:塗布層内の水分の質量(kg)、ww0:塗布層内の初期の水分の質量(kg)、wwF:塗布層内の乾燥終了後の水分の質量(kg)、wd:乾き塗布層の質量(kg)、wb:基材の質量(kg)、Tas:塗布層表面における熱風の温度(K)、Ts:塗布層の表面温度(K)、Ts0:塗布層の初期表面温度(K)、TS1:t1秒後における塗布層の表面温度(K)、TsF:塗布層の乾燥終了後の表面温度(K)、ΔTS:Δt秒間における塗布層の表面温度変化(K)、cw:水(液)の定圧比熱容量(J/(kg・K))、cGw:水(蒸気)の定圧比熱容量(J/(kg・K))、cd:乾いた塗布層の比熱容量(J/(kg・K))、cb:基材の比熱容量(J/(kg・K))、Δhw0:Ts0での水(液)の蒸発エンタルピー、Q:放射加熱、誘導加熱、又は通電加熱による発生エネルギー、である。
IPC (2件)：
G01N 25/18 ( 200 6.01)
, B05D 3/00 ( 200 6.01)
G01N 25/18 L
, B05D 3/00 D
