特許

J-GLOBAL ID：201303008881008431

光酸発生剤含有組成物、それを用いた感光性組成物、硬化膜、パターン配向膜、及び水溶性の光酸発生剤

発明者： 高橋 慶太 ,  山本 愛子
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-080113
公開番号（公開出願番号）：特開2013-234320
出願日： 2013年04月08日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：

【課題】水溶性の光酸発生剤を含有する光酸発生剤含有組成物、並びにそれを用いた感光性組成物、感光性組成物にて形成した硬化膜、配向膜、硬化膜の製造方法、パターン位相差フィルム、水溶性の光酸発生剤、及び化合物の提供。【解決手段】水80質量%以上と、前記水に溶解している0.1質量%以上のオニウム塩とを含み、前記オニウム塩が下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩である。式中、R1〜R3は、それぞれ独立にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、1価のヘテロ環基、カルボキシル基、アシル基およびシリル基から選択される基、又はこれらの基で置換された、アルキレン基、および2価のヘテロ環基から選択される基のいずれかを表し、R1とR2、R1とR3、R2とR3はそれぞれ互いに連結して環を形成しても良い。Xt-はアニオンを表し、tは1〜10の整数を表す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

水80質量%以上と、前記水に溶解している0.1質量%以上のオニウム塩とを含み、 前記オニウム塩が下記一般式(I)で表されるスルホニウム塩であることを特徴とする光酸発生剤組成物。

IPC (6件)：

C09K 3/00 ,  C07D 209/88 ,  G03F 7/031 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/06 ,  G02F 1/133

FI (6件)：

C09K3/00 K ,  C07D209/88 ,  G03F7/031 ,  C07C381/12 ,  C07C309/06 ,  G02F1/1337 525

Fターム (26件)：

2H125AC05 ,  2H125AC50 ,  2H125AD19 ,  2H125AN11P ,  2H125AN12P ,  2H125AP01P ,  2H125BA02P ,  2H125CA15 ,  2H125CA30 ,  2H125CB02 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H290BA30 ,  2H290BD02 ,  2H290DA01 ,  2H290DA03 ,  4C204BB10 ,  4C204CB25 ,  4C204DB40 ,  4C204EB01 ,  4C204FB17 ,  4C204GB29 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB80 ,  4H006TN30