特許
J-GLOBAL ID:201303011873724455
水酸基が導入された多孔性配位高分子を用いた水素吸蔵
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
岩瀬 吉和
, 小野 誠
, 金山 賢教
, 坪倉 道明
, 重森 一輝
, 城山 康文
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-177294
公開番号(公開出願番号):特開2013-040119
出願日: 2011年08月12日
公開日(公表日): 2013年02月28日
要約:
【解決課題】 亜鉛四核クラスターとテレフタル酸の配位子から構成される多孔性配位高分子(MOF-5)に水酸基を導入して、水素貯蔵量を増大する。【解決手段】 Zn4Oクラスターと配位子からなり、各々の配位子がBDC又はHBDC又はであり(但し、全ての配位子がBDCである場合は除く。)、該クラスターと配位子が交互に配位結合されてなる多孔性配位高分子。(ここで、BDCは、p-(OOC-Ph-COO)であり、HBDCは、p-(OOC-Ph(OH)-COO)であり、Phはフェニル基を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
Zn4Oクラスターと配位子からなり、各々の配位子がBDC又はHBDCであり(但し、全ての配位子がBDCである場合は除く。)、該クラスターと配位子が交互に配位結合されてなる多孔性配位高分子。(ここで、BDCはp-(OOC-Ph-COO)を表し、HBDCはp-(OOC-Ph(OH)-COO)を表し、Phはフェニル基を表す。)
IPC (8件):
C07C 63/26
, C07C 65/03
, B01J 37/04
, B01J 37/08
, B01J 31/22
, C01B 3/00
, B01J 20/30
, B01J 20/26
FI (8件):
C07C63/26 Z
, C07C65/03 Z
, B01J37/04 102
, B01J37/08
, B01J31/22 Z
, C01B3/00 B
, B01J20/30
, B01J20/26 A
Fターム (66件):
4G066AA53A
, 4G066AB05D
, 4G066AB06A
, 4G066AB07A
, 4G066AB09D
, 4G066AC11B
, 4G066BA22
, 4G066CA38
, 4G066DA01
, 4G066FA03
, 4G066FA21
, 4G066FA34
, 4G066FA37
, 4G066FA38
, 4G140AA42
, 4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169AA09
, 4G169BA21C
, 4G169BA22A
, 4G169BA22B
, 4G169BA28A
, 4G169BA28B
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB12C
, 4G169BC35A
, 4G169BC35B
, 4G169BC35C
, 4G169BE06A
, 4G169BE06B
, 4G169BE06C
, 4G169BE08C
, 4G169BE09A
, 4G169BE09B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE37C
, 4G169BE41A
, 4G169BE41B
, 4G169FA01
, 4G169FB05
, 4G169FB27
, 4G169FB29
, 4G169FB57
, 4G169FC02
, 4G169FC07
, 4G169FC10
, 4H006AA01
, 4H006AA02
, 4H006AA03
, 4H006AB40
, 4H006AB90
, 4H006BC31
, 4H006BJ50
, 4H006BN30
, 4H006BS30
, 4H048AA01
, 4H048AA02
, 4H048AA03
, 4H048AB40
, 4H048AB90
, 4H048BB20
, 4H048BC10
, 4H048VA66
, 4H048VB10
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