特許

J-GLOBAL ID：201303012453986230

有機デバイスの製造方法及び製造装置

発明者： 田中 潤一 ,  田中 康一 ,  山元 良高
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (2件)： 佐野 静夫 ,  井上 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-096436
公開番号（公開出願番号）：特開2013-225559
出願日： 2012年04月20日
公開日（公表日）： 2013年10月31日
要約：

【課題】パターニング後に得られる有機半導体層のダメージを少なくできる有機デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】有機デバイスの製造方法は、微細気泡含有液体(図3Bに矢印で示す)を用いて、基板10上に形成された有機半導体層13のパターニングを行う構成になっている。微細気泡含有液体は、基板10上に形成された有機半導体層13に向けて噴射される構成であってよい。【選択図】図3B

請求項（抜粋）：

微細気泡含有液体を用いて、基板上に形成された有機半導体層のパターニングを行うことを特徴とする有機デバイスの製造方法。

IPC (3件)：

H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/306

FI (4件)：

H01L29/78 627C ,  H01L29/78 621 ,  H01L29/78 618B ,  H01L21/306 R

Fターム (52件)：

5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043EE07 ,  5F110AA26 ,  5F110CC01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110EE01 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE07 ,  5F110EE08 ,  5F110EE14 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF09 ,  5F110FF27 ,  5F110FF28 ,  5F110FF29 ,  5F110FF35 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK01 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK07 ,  5F110HK09 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110HK41 ,  5F110NN02 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN33 ,  5F110NN34 ,  5F110NN35 ,  5F110NN39 ,  5F110QQ05