特許
J-GLOBAL ID：201303012502041416

エステル化反応生成物の製造方法及び化粧料

発明者：
山藤 芳仁

山藤 芳仁 について

, 
大井 友紀子

大井 友紀子 について

, 
藤澤 正明

藤澤 正明 について


出願人/特許権者：
日清オイリオグループ株式会社

日清オイリオグループ株式会社 について


代理人 (2件)： 関根 武 ,  渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-220137
公開番号（公開出願番号）：特開2013-010787
出願日： 2012年10月02日
公開日（公表日）： 2013年01月17日
要約：
【課題】 肌等に対する密着性が高く、耐水皮膜形成能、顔料分散性、抱水性、非染着性及び経時安定性に優れるエステル化反応生成物を製造する方法を提供すること。 【解決手段】 本発明のエステル化反応生成物の製造方法は、ジペンタエリスリトール1モルに対して、平均重合度が6〜12である12-ヒドロキシステアリン酸重合物2〜4モルとをエステル化することによって得られるエステル化反応生成物の製造方法であって、該エステル化反応生成物の水酸基価が20〜70mgKOH/gであり、酸価が3mgKOH/g以下である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
ジペンタエリスリトール1モルに対して、平均重合度が6〜12である12-ヒドロキシステアリン酸重合物2〜4モルとをエステル化することによって得られるエステル化反応生成物の製造方法であって、該エステル化反応生成物の水酸基価が20〜70mgKOH/gであり、酸価が3mgKOH/g以下である、エステル化反応生成物の製造方法。
IPC (13件)：
C07C 67/08 ,  C07C 69/67 ,  A61K 8/37 ,  A61K 8/85 ,  A61Q 1/04 ,  A61Q 1/02 ,  A61Q 19/00 ,  A61Q 5/00 ,  A61Q 5/02 ,  A61Q 5/12 ,  A61Q 1/10 ,  A61Q 3/02 ,  A61Q 17/04
FI (13件)：
C07C67/08 ,  C07C69/67 ,  A61K8/37 ,  A61K8/85 ,  A61Q1/04 ,  A61Q1/02 ,  A61Q19/00 ,  A61Q5/00 ,  A61Q5/02 ,  A61Q5/12 ,  A61Q1/10 ,  A61Q3/02 ,  A61Q17/04
Fターム (107件)：
4C083AA082 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB152 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB222 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AB332 ,  4C083AB432 ,  4C083AB442 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC082 ,  4C083AC092 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC182 ,  4C083AC212 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC302 ,  4C083AC342 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC391 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC542 ,  4C083AC612 ,  4C083AC642 ,  4C083AC662 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC842 ,  4C083AC852 ,  4C083AC862 ,  4C083AD022 ,  4C083AD042 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083AD222 ,  4C083AD242 ,  4C083AD262 ,  4C083AD282 ,  4C083AD302 ,  4C083AD352 ,  4C083AD492 ,  4C083AD512 ,  4C083AD572 ,  4C083AD642 ,  4C083CC03 ,  4C083CC04 ,  4C083CC05 ,  4C083CC12 ,  4C083CC13 ,  4C083CC14 ,  4C083CC19 ,  4C083CC23 ,  4C083CC28 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD05 ,  4C083DD11 ,  4C083DD17 ,  4C083DD21 ,  4C083DD22 ,  4C083DD23 ,  4C083DD30 ,  4C083DD31 ,  4C083DD32 ,  4C083DD33 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE17 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29 ,  4C083FF01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB12 ,  4H006AC48 ,  4H006BA11 ,  4H006BA37 ,  4H006BC40 ,  4H006BD20 ,  4H006BD70 ,  4H006BN10 ,  4H006KA06 ,  4H039CA66 ,  4H039CD10 ,  4H039CD30
引用特許：
出願人引用 (13件)
  • 特開昭52-48613号公報
  • 特開昭54-109917号公報
  • 特開昭55-57509号公報
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審査官引用 (5件)
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