特許

J-GLOBAL ID：201303012608850658

加工面計測システム及びそれを用いた加工面半連続加工・計測方法

発明者： 木野 勝 ,  栗田 光樹夫 ,  舞原 俊憲
出願人/特許権者： 株式会社ナノオプトニクス・エナジー ,  国立大学法人名古屋大学
代理人 (1件)： 狩野 彰
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2010052124
公開番号（公開出願番号）：WO2011-096090
出願日： 2010年02月08日
公開日（公表日）： 2011年08月11日
要約：

[課題] 大型光学素子は焦点距離が非常に長いので、その加工面を計測するためには、長尺のフレーム構造体によって加工面と計測器とを遠く離して設置しなければならない。ところが、長尺のフレーム構造体には固有振動が残留するので、従来は測定値の揺らぎを統計的に減らすため、計測に十分な時間をかける必要があった。[本発明の構成] 計測器に近接して制振装置を設置し、計測器と加工面とを結ぶ方向に垂直な面内の振動を振幅1μm以下に抑え込んで制振することを特徴とする加工面計測システムである。

請求項（抜粋）：

加工面と、 当該加工面に近接して配置された参照面と、 当該加工面と当該参照面とを計測し、加工面から離れた位置に配置された計測装置と、 当該加工面と当該計測装置とを連結するフレーム構造体と、 当該計測器に近接して配置された制振装置と、 からなる加工面計測システムであって、 当該加工面と当該計測器とを結ぶZ方向に垂直で互いに直交する方向であるX方向及びY方向の振動であって、フレーム構造体の固有振動に相当する振動を制振装置によって吸収して、X方向の振幅及びY方向の振幅を1μm以下に抑え込んで、制振することを特徴とする加工面計測システム。

IPC (1件)：

G01B 11/24

FI (1件)：

G01B11/24 D

Fターム (9件)：

2F065AA53 ,  2F065FF51 ,  2F065FF63 ,  2F065GG04 ,  2F065LL51 ,  2F065NN20 ,  2F065PP01 ,  2F065TT07 ,  2F065TT08