特許
J-GLOBAL ID：201303012908572145
リソグラフ処理及び像形成用のドライ多層無機合金感熱レジスト
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
恩田 博宣
, 恩田 誠
, 本田 淳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-062927
公開番号（公開出願番号）：特開2013-167886
出願日： 2013年03月25日
公開日（公表日）： 2013年08月29日
要約：
【課題】リソグラフ工程及び像形成に役に立つ感熱無機レジストを与える。【解決手段】レジストは、基板上に一般的には金属の材料から少なくとも2つの層を成膜することによって形成される。上記材料は共晶とともに混合合金を形成する。ある実施形態は、15nmのインジウム層上に15nmのビスマス層を有する。十分な輝度の光パルスに露光すると、光学的吸収によって複数の層は共晶融点(BiInの場合は、110°C)以上に加熱され、レジストは露光された領域内に合金を形成する。レジストの部分を選択的に加熱することによりレジストに所望のパターンを形成することができる。合金化された層の光学的特性は、通常、露光しなかった層の光学的特性とは異なる。BiInレジストにおいては、合金化した領域は、露光しなかった部分と比較して透明に視認される。露光パターンは、露光の制御に有用な視認可能の像を提供する。【選択図】図3D
請求項（抜粋）：
基板上に第1の無機材料の第1の層を成膜する工程と、
前記第1の無機材料と第2の無機材料との合金は前記第1の材料又はいずれの前記第2の材料の融点よりも低い融点を有するように、1つ以上の前記第2の無機材料の1つ以上の層を前記第1の層上に成膜する工程と、
前記層を像により露光することによって、露光されなかった領域では複数の層からなるとともに、露光された領域では前記第1の無機材料と前記1つ以上の第2の無機材料との合金からなる合成材料からなり、所定のパターンを画定するための層を形成する、前記層を像により露光する工程とからなり、
前記像により露光する工程は、前記第1及び第2の無機材料が酸素、窒素、又は酸素及び窒素の両方と反応することを可能とし、前記合成材料は前記第1の無機材料及び1つ以上の前記第2の無機材料の合金の1つ以上の酸化物、窒化物、又は水素化物からなり、
前記合成材料は、前記露光されなかった材料のうちのいずれとも異なる光学的特性を有することにより光学的照射による照明で視認可能な可視像を前記無機パターン層に形成し、
前記合成材料は前記露光の後にも侵食されないものであり、前記層のいずれとも異なるエッチング特性を有する、
無機パターン層を形成するための方法。
IPC (4件)：
G03F 7/004
, H01L 21/027
, G03F 1/54
, G03F 1/50
G03F7/004
, H01L21/30 502R
, G03F1/54
, G03F1/50
, H01L21/30 579
2H095BB01
, 2H095BB08
, 2H095BB14
, 2H095BC02
, 2H095BC05
, 2H125AB03
, 2H125AP05P
, 2H125AP08P
, 2H125CA08
, 2H125CA12
, 2H125CB01
, 2H125CB03
, 2H125CC01
, 2H125CC05
, 2H125CD13P
, 2H125CD22P
, 2H125CD31
, 2H125CD40
, 2H125DA12
, 2H125DA30
, 5F146JA27
