特許

J-GLOBAL ID：201303014291313565

有機EL装置およびその製造方法

発明者： 山室 裕
出願人/特許権者： ローム株式会社
代理人 (3件)： 三好 秀和 ,  寺山 啓進 ,  三好 広之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-034956
公開番号（公開出願番号）：特開2013-171716
出願日： 2012年02月21日
公開日（公表日）： 2013年09月02日
要約：

【課題】耐久性および歩留まりを向上させた有機EL装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】基板10と、基板上に配置された第1電極層12と、第1電極層上に配置された有機EL層40と、有機EL層上に配置された第2電極層20と、第2電極層上に配置される封止用ガラス板50とを少なくとも備える有機EL装置において、第2電極層の表面の全部または一部を保護層25によって被覆した。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板と、 前記基板上に配置された第1電極層と、 前記第1電極層上に配置された有機EL層と、 前記有機EL層上に配置された第2電極層と、 前記第2電極層上に配置される封止用ガラス板と、 前記第2電極層の表面の全部または一部を被覆する保護層と を備えることを特徴とする有機EL装置。

IPC (3件)：

H05B 33/04 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/10

FI (3件)：

H05B33/04 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/10

Fターム (19件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107CC21 ,  3K107CC23 ,  3K107CC45 ,  3K107EE43 ,  3K107EE46 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE51 ,  3K107EE52 ,  3K107EE53 ,  3K107EE55 ,  3K107GG06 ,  3K107GG24 ,  3K107GG28 ,  3K107GG51 ,  3K107GG57