特許

J-GLOBAL ID：201303014386391911

受光素子、その製造方法、光学装置

発明者： 猪口 康博
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (2件)： 特許業務法人ハートクラスタ ,  渡辺 征一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-273572
公開番号（公開出願番号）：特開2013-125847
出願日： 2011年12月14日
公開日（公表日）： 2013年06月24日
要約：

【課題】 感度上昇のためのコスト増大がほとんどない、高い感度を有する受光素子、その製造方法および光学装置を提供する。【解決手段】 受光素子10は、半導体基板1の上に位置して、受光するための受光層3と、受光層3の上に位置するコンタクト層5と、コンタクト層にオーミック接触する画素電極11とを備え、半導体基板の裏面が光入射面であり、コンタクト層と画素電極との化学反応を防止するための反応防止膜8が、該コンタクト層と該画素電極との間の限定領域に介在していることを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

半導体基板に形成され、画素を備える受光素子であって、 前記半導体基板の上に位置して、受光するための受光層と、 前記受光層の上に位置するコンタクト層と、 前記コンタクト層にオーミック接触する画素電極とを備え、 前記半導体基板の裏面が光入射面であり、 前記コンタクト層と前記画素電極との化学反応を防止するための反応防止膜が、該コンタクト層と該画素電極との間の限定領域に介在していることを特徴とする、受光素子。

IPC (1件)：

H01L 31/10

FI (1件)：

H01L31/10 A

Fターム (16件)：

5F049MA02 ,  5F049MA04 ,  5F049MB07 ,  5F049NA01 ,  5F049PA09 ,  5F049PA11 ,  5F049QA03 ,  5F049QA06 ,  5F049QA16 ,  5F049RA02 ,  5F049RA06 ,  5F049SE05 ,  5F049SE16 ,  5F049SS04 ,  5F049SZ03 ,  5F049SZ13